近日，中科院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊在微納制作設備領域再次發力，自主研制成功紫外納米壓印光刻機，其成本僅為國外同類設備的三分之一，推進我國微納實用制造水平邁上新的臺階。 

　　光刻機是實現微納圖形加工的專用高端設備，它的出現使集成電路得以誕生，引發了第三次工業革命，人類進入信息時代。中科院光電所自主研發的紫外納米壓印系列光刻機，將納米壓印這一新型高分辨力光刻技術與具有低成本、高效率特點的紫外光刻技術有機結合，成功將加工制作成本減至國外同類設備的三分之一，同時還在同一加工平臺上實現了微米到納米級的跨尺度圖形加工。 

　　值得一提的是，這套設備采用新型納米對準技術，將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級。對準是光刻設備三大核心指標之一，是實現功能化器件加工的關鍵。光電所在國家自然基金的連續資助下，完成基于莫爾條紋的高精度對準技術自主研發，取得專利20余項。該技術在光刻機中的成功應用突破了現有納米尺度結構加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障。設備可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結構器件的制備，具有廣闊的應用前景。目前設備已完成初試和小批生產，并在高校與企業用戶中進行了推廣，獲得了用戶一致好評。 

　　近期，由中國半導體行業協會、中國電子材料行業協會、中國電子專用設備工業協會、中國電子報社共同舉辦的“第十屆（2015年度）中國半導體創新產品和技術”頒獎大會在北京舉行，該產品在大會中榮獲“第十屆（2015年度）中國半導體創新產品和技術”獎。 

新型光刻機