光學(xué)鍍膜完成的大口徑反射光學(xué)元件光譜（反射率）非均勻性是非常重要的技術(shù)參數(shù)，必須滿足一定的技術(shù)要求才能用于系統(tǒng)中，因此必須具備相應(yīng)的測(cè)試手段對(duì)大口徑反射元件的反射率（非）均勻性進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量，從而保證用于系統(tǒng)中反射光學(xué)元件的質(zhì)量，滿足系統(tǒng)正常運(yùn)行。 

　　中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所薄膜光學(xué)測(cè)試研究團(tuán)隊(duì)建立了基于頻率選擇性光反饋光腔衰蕩技術(shù)的高速、高精度、高空間分辨率大口徑反射光學(xué)元件反射率及其均勻性測(cè)試原型樣機(jī)，目前已用于國家工程任務(wù)中大口徑反射元件的測(cè)試評(píng)估和質(zhì)量控制，為大口徑反射光學(xué)元件制備的工藝優(yōu)化提供了測(cè)試技術(shù)平臺(tái)。  

　　該測(cè)試技術(shù)取得的主要技術(shù)突破是實(shí)現(xiàn)了大口徑反射元件反射率分布的二維高分辨成像測(cè)量，最大測(cè)量口徑達(dá)到300×450mm，當(dāng)R>99.99%時(shí)，反射率重復(fù)性精度優(yōu)于±0.002%，反射率絕對(duì)測(cè)量精度優(yōu)于±0.005%。可提供反射率測(cè)量的時(shí)間指數(shù)衰減擬合曲線和鏡面反射率掃描的三維測(cè)試結(jié)果。 

　　該測(cè)試裝置已經(jīng)為大口徑反射光學(xué)元件的反射率及其均勻性提供了高速、高精度、高空間分辨率的二維掃描反射率檢測(cè)、對(duì)大口徑光學(xué)元件反射率的評(píng)估和優(yōu)化起到重要技術(shù)支持，成為國家高技術(shù)項(xiàng)目質(zhì)量控制必要的測(cè)試技術(shù)平臺(tái)之一。 

　　以上研究得到了中國科學(xué)院科研裝備項(xiàng)目的資助。